商业秘密没有明确的法律保护方式；而专利是通过在知识产权局注册专利申请并获得专利权保护。而专利的保护期限通常为20年，自专利授予之日起计算。而专利申请需要进行公开披露，以便其他人能够了解该发明、创新或设计，但同时也为发明人提供了独占权。而专利给予发明人独占和排他权利，可以阻止他人在专利保护范围内制造、使用、销售或进口相同的产品或技术，侵权者可能会被追究法律责任。
商业秘密和专利之间有以下主要差异：
1. 法律保护方式：商业秘密是指商业实体（如企业）为了保护其商业信息而采取的措施，如保密协议、访问控制和标记等。商业秘密没有明确的法律保护方式；而专利是通过在知识产权局注册专利申请并获得专利权保护。
2. 保护范围：商业秘密可以包括各种商业信息，如技术、制造方法、客户列表、销售策略等。这些信息只要保持秘密状态，就可以获得保护。而专利主要保护新的发明、创新和设计，具有创造性和实用性。
3. 保护期限：商业秘密的保护期限没有限制，只要保持秘密状态就可以一直受到保护。而专利的保护期限通常为20年，自专利授予之日起计算。
4. 公开要求：商业秘密无需公开披露，商业实体可以通过自己的控制和保密措施来保护其商业信息。而专利申请需要进行公开披露，以便其他人能够了解该发明、创新或设计，但同时也为发明人提供了独占权。
5. 可独占性：商业秘密无法阻止他人独立开发相同的产品或技术，只有在泄露商业秘密的情况下，商业实体才能提起民事诉讼。而专利给予发明人独占和排他权利，可以阻止他人在专利保护范围内制造、使用、销售或进口相同的产品或技术，侵权者可能会被追究法律责任。
综上所述，商业秘密和专利在保护方式、范围、期限、公开要求和独占性方面都存在差异，企业需要根据具体情况选择适合的知识产权保护方式。